--- type: product title: K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV 58mm url: https://hi-techwonder.com/es/producto/kf-concept-filtro-uv-nano-x-mrc-58mm/ markdown_url: https://hi-techwonder.com/es/producto/kf-concept-filtro-uv-nano-x-mrc-58mm.md sku: KF01.967 product_type: simple price: "15.9" regular_price: "15.9" on_sale: false currency: EUR stock_status: instock stock_quantity: 1 categories: - Protección UV - Filtros Circulares - Objetivos attributes: Diámetro de Rosca: - 58mm Tipo de Filtro: - Protección - Ultravioleta weight: 0.104 kg dimensions: 12.3 × 11.3 × 0.2 cm images: - https://hi-techwonder.com/wp-content/uploads/2026/07/1720007435_1832746.jpg slug: kf-concept-filtro-uv-nano-x-mrc-58mm published: 2026-07-10T14:37:09Z modified: 2026-07-27T16:32:50Z language: es-ES word_count: 480 tokens: 840 --- # K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV 58mm > K&F Concept Filtro UV de protección para objetivos de 58mm. > Cristal óptico japonés AGC de alta calidad. > Transmisión de luz del 99,6%. > Revestimiento Nano-X multicapa de 28 capas. > Resistente al agua, aceite, polvo y arañazos. > Marco de aluminio ultrafino de 3,3mm. > Reduce la radiación ultravioleta y mejora el contraste. > Protege el elemento frontal del objetivo sin afectar la calidad de imagen. >   K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV 58mm KF01.967 El K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV58mm ofrece una protección permanente para el objetivo mientras mantiene una excelente calidad de imagen. Fabricado con cristal óptico japonés AGC de alta precisión, alcanza una transmisión de luz del99,6%, garantizando imágenes nítidas, con colores naturales y un elevado contraste. Además de bloquear parte de la radiación ultravioleta, ayuda a reducir la neblina atmosférica en determinadas condiciones de iluminación, mejorando la claridad de fotografías y vídeos. Su revestimiento Nano-X de28capas protege eficazmente frente al agua, aceite, polvo, huellas y arañazos, facilitando la limpieza y prolongando la vida útil del filtro. El cristal tratado mantiene un excelente rendimiento incluso en condiciones de trabajo exigentes. El marco de aluminio de solo3,3mm presenta un diseño ultrafino que reduce el riesgo de viñeteado, incluso cuando se utiliza con objetivos gran angular compatibles. Su construcción robusta y ligera convierte este filtro en un accesorio imprescindible para proteger el objetivo durante el uso diario. El K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV 58mm está dirigido a fotógrafos y videógrafos que desean proteger el elemento frontal de su objetivo sin comprometer la calidad óptica. Es una excelente opción para fotografía de paisaje, viajes, naturaleza, retrato y uso diario, proporcionando una protección eficaz y una reproducción fiel del color. Contenido de la caja 1 × K&F Concept Filtro UV Nano-X MRC UV58mm Características Filtro UV diseñado para proteger el objetivo frente a golpes, polvo, humedad y huellas. Cristal óptico japonés AGC con alta transmisión lumínica. Transmisión de luz del99,6% para mantener la fidelidad del color. Revestimiento Nano-X de28capas con propiedades hidrofóbicas y oleofóbicas. Superficie resistente a arañazos para una mayor durabilidad. Marco de aluminio ultrafino de3,3mm que minimiza el viñeteado. Compatible con objetivos que utilizan rosca de58mm. Ideal para uso permanente como protección del objetivo. Especificaciones técnicas EspecificaciónDetalle MarcaK&F Concept ModeloNano-X MRC UV Tipo de filtroUV Diámetro del filtro58mm Rosca frontal58mm Transmisión de luz99,6% Material ópticoCristal óptico japonés AGC RevestimientoNano-X multicapa de 28 capas ResistenciaAgua, aceite, polvo y arañazos Espesor del marco3,3mm Material del marcoAluminio CompatibilidadObjetivos con rosca de58mm SKUKF01.967 Peso del embalaje104g Dimensiones del embalaje12,3x11,3x2,2cm NotaImágenes ilustrativas. Puede contener imágenes de equipos fotográficos no incluidos. El producto puede diferir de la imagen mostrada. La imagen puede contener piezas y accesorios que no están incluidos en el producto. Consulte el contenido de la caja y las especificaciones del fabricante para más detalles.